- Артикул:00-01114498
- Автор: В. Т. Черепин
- ISBN: 5-12-001329-5
- Тираж: 640 экз.
- Обложка: Твердая обложка
- Издательство: Наукова Думка (все книги издательства)
- Город: Киев
- Страниц: 344
- Формат: 60х90/16
- Год: 1992
- Вес: 564 г
Развернуть ▼
Монография посвящена физическим основам, аппаратуре, методам исследования и областям применения анализа твердых тел различной природы на основе масс-спектрометрии вторичных ионов. Рассмотрены физические явления при бомбардировке поверхности пучками ускоренных ионов. Описаны физические основы создания аппаратуры для осуществления ионного микрозондирования, а также новые достижения в области анализа с субмикронным пространственным разрешением в ионных микроскопах и ионных микрозондах.
Рассмотрены методики проведения качественного и количественного анализа при ионном зондировании. Освещено применение ионного микрозондового анализа в различных областях микроэлектроники, материаловедении, физике поверхности, биологии, геологии, органической химии.
Для научных и инженерно-технических работников, занимающихся вопросами ионного микрозондового анализа, его применения в различных областях науки и техники.
Содержание
Предисловие
Принятые условные обозначения и сокращения
Раздел I. Эмиссия вторичных ионов при ионной бомбардировке
Глава 1. Распыление при ионной бомбардировке
§ 1.1. Взаимодействие ионных пучков с поверхностью твердого тела
§ 1.2. Распределение по глубине проникновения внедренных ионов и дефектов, созданных ионами
§ 1.3. Распыление
§ 1.4. Влияние различных факторов на распыление
§ 1.5. Распыление сплавов и соединений
Глава 2. Эмиссия вторичных ионов
§ 2.1. Параметры ВИЗ
§ 2.2. Зависимость коэффициента ВИЭ от энергии первичных ионов
§ 2.3. Влияние плотности тока первичного пучка ионов
§ 2.4. Зависимость коэффициента ВИЭ от температуры мишени
§ 2.5. Энергетические спектры вторичных ионов
§ 2.6. Угловые закономерности ВИЭ
§ 2.7. Эмиссия полиатомных ионов
§ 2.8. Эмиссия многозарядных и отрицательных ионов
§ 2.9. Сочетание первичных ионов и мишеней
Глава 3. Механизмы образования вторичных ионов
§ 3.1. Кинетическая ионная эмиссия
§ 3.2. Модели поверхностной ионизации
§ 3.3. Термодинамические модели
§ 3.4. Модели электронного туннелирования
§.3.5. Теоретические представления о механизме химического усиления ВИЭ
§ 3.6. Машинное моделирование процессов ионизации
§ 3.7. Критерии применимости моделей ионизации и методы экспериментальной проверки
Раздел II. Приборы для масс-спектрометрии вторичных ионов
Глава 4. Основные компоненты аналитических установок
§ 4.1. Типы ионных источников
§ 4.2. Дуоплазматрон
§ 4.3. Жидкометаллические (электрогидродинамические) ионные источники
§ 4.4. Системы формирования первичного пучка
§ 4.5. Масс-сепарация первичного пучка
§ 4.6. Оптика вторичных ионов
§ 4.7. Масс-спектрометры вторичных ионов
§ 4.8. Регистрация ионов, вакуумные системы
Глава 5. Масс-спектральные микроскопы
§ 5.1. Общие принципы и классификация приборов
§ 5.2. Эмиссионный объектив
§ 5.3. Масс-анализатор на основе стигматической магнитной призмы
§ 5.4. Расчет магнитной призмы
§ 5.5. Масс-спектральный микроскоп с фокусировкой по массам и энергиям
§ 5.6. Регистрация изображений в МСМ
Глава 6. Ионные микрозонды
§ 6.1. Формирование ионных микропучков
§ 6.2. Субмикронные ионные пучки
§ 6.3. Отклонение микропучков
§ 6.4. Сбор и анализ вторичных ионов
§ 6.5. Конструкции ионных микрозондовых анализаторов
§ 6.6. Сравнение масс-спектрального микроскопа и ионного микрозонда
Глава 7. Исследовательские установки
§ 7.1. ВИМС с угловым и энергетическим разрешением
§ 7.2. Комбинированные методы анализа
§ 7.3. Установки со схемой совпадений
§ 7.4. Манипуляторы образцов в экспериментальных установках
Раздел III. Анализ состава и структуры твердых тел методами ВИМС
Глава 8. Анализ состава твердых тел
§ 8.1. Аналитические характеристики ВИМС
§ 8.2. Качественный анализ состава
§ 8.3. Количественный анализ состава по масс-спектрам ВИЭ
§ 8.4. Эталоны и перекрестная калибровка приборов
§ 8.5. Количественный анализ с применением реакционной эмиссии
§ 8.6. Послойный анализ
§ 8.7. Пространственно-многомерный анализ на основе ВИМС
§ 8.8. Анализ структурных изменений в сплавах
Глава 9. Анализ органических и биологических объектов
§ 9.1. Механизм образования вторичных ионов органических веществ
§ 9.2. Органика, нанесенная на подложку
§ 9.3. Органические соединения с применением жидкой матрицы
§ 9.4. Микроструктура полимеров методом ВИМС
Глава 10. Исследование процессов на поверхности
§ 10.1. Методические особенности анализа процессов на поверхности
§ 10.2. Процессы адсорбции
§ 10.3. Окисление металлов
§ 10.4. Каталитические процессы
§ 10.5. Сравнение ВИМС с другими методами анализа поверхности
Список литературы
Рекомендуем
